适用于院校实验室,工矿企业实验室,供化学分析,物理测试及金属,陶瓷等的烧结和溶解,小型钢件等加热,焙烧,热处理。
TN-G1200型单温区立式管式炉
以硅钼棒为加热元件,采用真空成型工艺技术生产的进口无机纤维为炉膛的保温材料和特殊的绝热设计。炉体采用双层炉壳结构,高性能隔热材料,外边面温度低。炉门、炉顶采用高温硅橡胶密封,炉门配备水冷系统。采用液压驱动升降系统,操作时无振动。
技术参数:
1 产品名称 单温区立式管式炉
2 产品型号 TN-G1200
3 炉膛尺寸 300x200x200(更多的可根据用户需求定制)
4 正常工作温度 1600℃
5 *高工作温度 1700℃
6 温控方式 50段可编程自动控制
7 温控精度 ±1℃
8 加热速率 0-20℃/min
9 加热元件 硅钼棒
10 电源电压 Ac220V 50Hz
11 *大功率 9Kw
12 净重 100Kg
13 相关配件 坩埚钳、高温手套、热电偶、垫砖、门堵 |